发热电阻-广东电阻-厚博电子的详细描述：

  电位器">电位器结构和种类

　　电位器">电位器由外壳、滑动轴、电阻体和三个引出端组成，如图3所示。电位器">电位器的种类很多，按调节方式可分为旋转式（或转柄式）和直滑式电位器">电位器；按联数可分为单联式和多联式电位器">电位器；按有无开关分为无开关和有开关两种；按阻值输出函数特性可分为直线式电位器">电位器、指数式电位器">电位器和对数式电位器">电位器三种。如实芯电位器">电位器、片式电位器">电位器、碳膜电位器">电位器、玻璃釉电位器">电位器、精密导电塑料电位器">电位器和其他电位器">电位器。

v3.干显影或剥离型干膜

这种干膜不需用任何显影溶剂，而是利用干膜的感光部分与未感光部分对聚酯薄膜表面

和加工工件表面附着力的差别，在从曝光板上撕下聚酷薄膜时，未曝光的不需要的干膜随聚酯 薄膜剥离下来，在加工工件表面留下已曝光的干膜；由此得到所需要的干膜图像。

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根据干膜的用途，可把干膜分为抗蚀干膜、掩孔干膜和阻焊干膜，抗蚀干膜和掩孔干膜用

作制造印制板图像，而阻焊干膜是涂覆在印制板成品板的表面上，有选择地保护印制板表面，

以便在焊接元器件时，防止导线和焊盘问的短路、桥接，它也是印制板表面的性保护层，能

起到防潮、防霉、防盐雾等作用。由于阻焊干膜的成本高，并且在应用中需要昂贵的真空贴膜 设备，因而被近年来飞速发展的液体感光阻焊剂所代替。

v干膜光致抗蚀剂的结构

干膜光致抗蚀剂由聚酯薄膜，光致抗蚀剂膜及聚乙烯保护膜三部分组成。 聚酯薄膜是支撑感光胶层的载体，使之涂布成膜，厚度通常为25μm左右。聚酯薄膜在曝

光之后显影之前除去，防止曝光时氧气向抗蚀剂层扩散，破坏游离基，引起感光度下降。 聚乙烯膜是复盖在感光胶层上的保护膜，防止灰尘等污物粘污干膜，避免在卷膜时，每层

抗蚀剂膜之间相互粘连。聚乙烯膜一般厚度为25μm左右。

光致抗蚀剂膜为干膜的主体，多为负光材料，其厚度视其用途不同，有若干种规格，薄的可以是十几个微米，厚的可达100μm。

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干膜光致抗蚀剂的制作是先把预先配制好的感光胶在高清洁度的条件下，在高精度的涂 布机上涂覆于聚酯薄膜上，经烘道干燥并冷却后，覆上聚乙烯保护膜，卷绕在一个辊芯上。

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v★光致抗蚀剂膜层的主要成分及作用

：我国大量用于生产的是全水溶性干膜，这里介绍的是全水溶性干膜感光胶层的组成。